本書自1975年出版第一版至今條訂為第三版，繞射學已經有很大的進展，其學術領域包括物理光學、繞射物學理學及電子顯微鏡方面，及作者個人對電子繞射和型序、晶體繞射方面的興趣，尤其是繞射方法和應用和繞射學的現況，更補充參考文獻供讀者及技術人員參考。本書適合作為基礎繞射課程的學生和已有繞射工作經驗人士參考。