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中華民國第十九屆國際版畫雙年展
活動時間：2020/07/22 ~ 1900/01/01
「中華民國國際版畫雙年展」於1983年開辦，是臺灣第一個以雙年展形式創設的開放型競賽展覽，也是國際歷史悠久的競賽型版畫雙年展之一，本雙年展辦理宗旨在於透過國際徵件競賽與展出，建立版畫藝術的交流平台，網羅世界各地優秀及具創意發揮的版畫作品，豐富版畫藝術的多元發展並促進版畫藝術的創作風氣，歷年舉辦以來獲得國際版畫藝術家的熱烈迴響與支持，也漸漸成為國際間受到矚目的版畫藝術交流盛事之一。
本屆「中華民國第十九屆國際版畫雙年展」共有來自80個國家1220位藝術家報名參賽，歷經初複審作業，選出共計40國164件作品，其中包含金、銀、銅牌獎各1名、評審團特別獎2名、優選5名、佳作5名的得獎作品。15件得獎作品中，包括來自臺灣、日本、泰國、印度、馬來西亞、波蘭、塞爾維亞、阿根廷及哥倫比亞等多國的版畫創作者，呈現出不同文化脈絡下版畫藝術的豐富多元風貌。這些精彩的得獎及入選作品將於今年7月4日至9月27日於國立臺灣美術館展出。此次得獎與參賽作品在技法、主題、文化脈絡上形式多元，創作者以自身生活經驗與其養成的文化底蘊詮釋各種議題，亦以積極態度回應當下社會現象和所處環境，諸如對自然生態環境、社會脈動的反思與關懷，個人精神世界的表達及探索，對時空或本質問題的省思及叩問，融合形象式語彙的感悟與傳達，不僅開拓本展的深度與廣度，在今（2020）年全球面臨新冠肺炎疫情襲擊的此時，藝術家們利用版畫創作所銘刻下的時代記憶與心靈圖像，更顯深刻而別具意義。
活動日期：2020年7月4日（六）至2020年9月27日（日）
活動時間：週二至週五上午12:00~下午6:00；週六上午10:00~下午8:00；週六上午10:00~下午6:00（每週一休館）
活動地點：國立台灣美術館102、202展覽室（中市西區五權西路一段2號 ）
圖文轉載自「國立台灣美術館」
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